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EUV不是必须的 DUV光刻还没到极限：逼近台积电2nm不是梦

快科技7月5日消息，EUV光刻机被认为是5nm以下工艺不可或缺的关键设备，然而EUV成本高，再加上受限的情况下，半导体工艺只靠当前的DUV光刻能做到什么地步。