消息称三星电子、SK 海力士均将向 ASML EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元

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EUV ASML 2027 三星电子光刻机 IT之家日消息 ChosunBiz 当地时间本月日报道称

2026-11-10 1 阅读约1分钟阅读 IT之家

IT之家 11 月 10 日消息，韩媒《ChosunBiz》当地时间本月 8 日报道称，该国两大半导体企业三星电子、SK 海力士正竞相采购 ASML 的 EUV 光刻机，相关投资额均在 10~20 万亿韩元（IT之家注：现汇率约合 491.3 ~ 982.6 亿元人民币）区间。作为这波 AI 半导体浪潮中受益最为明显的那批企业，三星电子、SK 海力士都在努力提升晶圆厂产能，而 EUV 机台是产能增长的关键要素。 SK 海力士今年 3 月确认将于 2026~2027 两年向 ASML 采购 11.95 万亿韩元的 EUV 光刻机，其龙仁 Y1 晶圆厂预计 2027 年 2 月启用首个无尘室；另一方面，三星电子承诺 2028 年将 High NA EUV 用于 DRAM 量产，其平泽 P5 预计 2027 年中导入设备。两家企业均拥有庞大的 EUV 设备需求，而半导体设备的交付周期正普遍延长，提前下单有助于确保产能按规划上线。相关阅读：《光刻机巨头 ASML 阿斯麦需求排到 2030 年》《曝 ASML 光刻机配件韩国市场将统一涨价 10%，三星、SK 海力士已接受》

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